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Vornorm

ÖNORM CEN/TS 1071-10

Ausgabedatum: 2004 10 01

Hochleistungskeramik - Verfahren zur Prüfung keramischer Schichten - Teil 10: Bestimmung der Schichtdicke mittels Querschliff

Diese Technische Spezifikation legt ein Messverfahren für die Schichtdicke keramischer Beschichtungen fest, bei dem ein metallographisch angefertigter Querschliff der Bes...
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ZURÜCKGEZOGEN : 2009 08 15
Diese Technische Spezifikation legt ein Messverfahren für die Schichtdicke keramischer Beschichtungen fest, bei dem ein metallographisch angefertigter Querschliff der Beschichtung mit einem kalibrierten Licht- oder Rasterelektronenmikroskop untersucht wird. Die Norm lehnt sich eng an EN ISO 9220 an, jedoch wurden alle erforderlichen Anpassungen und Aktualisierungen vorgenommen, um neuen keramischen Beschichtungen und der derzeitig besten Praxis zu entsprechen.
ÖNORM EN 1071-10
2009 08 15
Hochleistungskeramik - Verfahren zur Prüfung keramischer Schichten - Teil 10: Bestimmung der Schicht...
Norm
ÖNORM CEN/TS 1071-10
2004 10 01
Hochleistungskeramik - Verfahren zur Prüfung keramischer Schichten - Teil 10: Bestimmung der Schicht...
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ÖNORM CEN/TS 1071-10
2004 01 01
Hochleistungskeramik - Verfahren zur Prüfung keramischer Schichten - Teil 10: Bestimmung der Schicht...
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Norm
ÖNORM EN 1071-10
Ausgabedatum : 2009 08 15
Hochleistungskeramik - Verfahren zur Prüfung keramischer Schichten - Teil 10: Bestimmung der Schichtdicke mittels Querschliff